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  • 产品名称: 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD
  • 上架时间: 2017-05-05
  • 产品编号: 03990604
  • 浏览次数: 67

产品简介:1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。且采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

 

 

产品型号

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

主要特点

1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。

2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。

3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。

4、标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配。

5、安装采用标准真空接头,便于操作。

6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。

7、配有铜靶1块。

技术参数

1、溅射头直径:Ø46.3mm

2所用靶材:直径1"±0.02"(25.4mm),最大厚度1/8"(3mm        

3磁环:NdFeB稀土永磁体

4、柄杆直径:外径3/4"

5、电路接头:标准HN型接头,可与DCRF电源相匹配

6、所需功率:DC最大250WRF最大100W

7、阴极溅射电流:最大3A

8、阴极溅射电压:200V-1000V

9、工作压力范围:1mtorr-1torr

10、溅射厚度均匀性:采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜,直流功率150W真空环境

                                       10mtorr1"铜靶,与基片距离75mm

                                       

11、水冷却:水管接头为外径0.25"快插头,所需水流量1/2GPM,进水温度<20

                       

12、高真空快速接头:为赠送品,数量1个,内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装

             孔直径为1",真空腔体的壁厚不得大于1"

                                       

13、倾斜装置:溅射头相对于柄杆最大可倾斜±45˚,设有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度

                         

产品规格

尺寸:14"355.6mm);重量:1.36kg

可选配件

1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L

2100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD,可自行搭建溅射镀膜仪。

主要应用

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,应用如下:

薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膜

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