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首页薄膜生长设备薄膜生长辅助设备膜厚监测仪 > TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪
  • 产品名称: TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪
  • 上架时间: 2017-05-03
  • 产品编号: 03990702
  • 浏览次数: 67

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产品简介:TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪是一款利用反射光谱测试薄膜厚度的仪器,可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度而不损伤样品表面的薄膜是一款无损测厚仪,其测量膜厚范围为15nm-50um测量膜厚范围广,尤其适用于超薄薄膜厚度的测量。仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm,波长范围广,因此,测试薄膜厚度的范围广TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪测试系统理论基础为镜面纤反射探头,该仪器尺寸小巧可节省实验室空间操作方便,读数直观,方便于在实验室中摆放和使用。

 

产品名称

  TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

产品型号

TFMS-LD

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

氧化物

氮化物

光刻胶

半导体(硅,单晶硅,多晶硅等)

半导体化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

硬涂层(碳化硅,类金刚石炭)

聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

金属膜

        

特点

测量和数据分析同时进行,可测量单层膜,多层膜,无基底和非均匀膜

包含了500多种材料的光学常数,新材料参数也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

体积较小,方便摆放和操作

可测量薄膜厚度,材料光学常数和表面粗糙度

使用电脑操作,界面中点击,即可进行测量和分析

精度

0.01nm或0.01%

准确度

0.2%或1nm

稳定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

标准3mm,可以小至3um

要求样品大小

大于1mm

分光仪/检测器

400 - 1100 nm 波长范围

光谱分辨率: < 1 nm

电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W的钨卤素灯

色温:2800K

使用寿命:1000小时

反射探针

光学纤维探针,400um纤维芯

配有分光仪和光源支架

载样台

测量时用于放置测量的样品

 

通讯接口

USB接口,方便与电脑对接

TFCompanion软件

强大的数据库包含两500多种材料的光学常数(n:折射率,K:消失系数)

误差分析和模拟系统,保证在不同环境下对样品测量的准确性

可分析简单和复杂的膜系

 

设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg

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