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首页薄膜生长设备化学气相沉积设备(PECVD等) > 4路质子混气管式PECVD系统
  • 产品名称: 4路质子混气管式PECVD系统
  • 上架时间: 2017-05-02
  • 产品编号: 03050609
  • 浏览次数: 163

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产品简介:4路质子混气管式PECVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜,因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。

 

4路质子混气管式PECVD系统

 

产品型号

4路质子混气管式PECVD系统

安装条件

 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命

2、辉光放电等离子体中电子密度可达109cm3-1012cm3

3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍。

4、配有高精度数字显示质量流量计,可准确地控制气体流量。

5、一个气体混气罐的底部安装了液体释放阀。

6、不锈钢针阀安装在左侧部分,可手动控制混合气体的输入。

7、已通过CE认证。

技术参数

管式炉

1、电源:AC220V  4KW

2、炉管:Ø50mmØ60mmØ80mm都可用

3、温度控制器:30段高精度数字可编程温度控制器

4、加热区:440mm

5、恒温区:150mm

等离子射频电源

1、输入功率:AC220V  1KW

2输出功率:50W-500W可调,±1%

3RF频率:13.56MHz

4、噪声:≤55DB

5、冷却:风冷

真空泵和质量流量计

1、真空度:10-3torr

2、波纹管:KF25系列

3、质量流量计:0-200,误差0.02%,进气口采用国际标准双卡头

产品规格

尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,供气及真空系统600mm×600mm×1250mm

重量:120kg

可选配件

防腐型数字式真空显示计

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