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首页薄膜生长设备化学气相沉积设备(PECVD等) > 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV
  • 产品名称: 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV
  • 上架时间: 2017-05-02
  • 产品编号: 03050608
  • 浏览次数: 35

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产品简介:带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃,并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场,可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。

 

 

产品型号

带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1双层壳体,配有冷系统,炉体采用高纯度氧化铝多晶纤维保温材料

2内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度

3一端法兰配有滑轨,便于样品装卸;另一端法兰装有数字真空计

4采用三个独立PID控制器 ,可以设置30段升降温程序,设有过热和断偶保护功能。

5已通CE认证

技术参数

1电源:单相AC 208-240V   50/60Hz  7KW 40A保险丝)

2、石英管:外径Ø125mm,内径120mm,长1400mm,带有一对真空密封法兰

3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝

4、加热区域:温区I229mm,温区II457mm,温区III229mm,总长915mm

5、恒温区域:三个温区为同一温度时为625mm,温区II110mm

6工作温度:最高1200连续工作1100

7、最大升降温速率:20/min

8、控温精度:±1

9、热电偶:K

10、浮子流量计:3个,量程0-100ml/min0-160ml/min0-250ml/min

11、数字真空计:10-4torr

产品规格

尺寸:管式炉1080mm×430mm×600mm;重量:70kg

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