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首页薄膜生长设备高真空镀膜机 > 微型PECVD系统
  • 产品名称: 微型PECVD系统
  • 上架时间: 2017-04-28
  • 产品编号: 03050109
  • 浏览次数: 70

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产品简介:微型PECVD系统采用Ø3" × 16" 的石英腔体,内部设有加热圈对样品进行加热,最高温度可以达到400℃,且采用程序化控温,系统还配有2通道混气装置和双旋机械泵,整套系统安放于移动架上,便于实验操作。本系统系对于薄膜生长和纳米线的制作是最佳的选择。

 

产品型号

微型PECVD系统

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、加热圈套有石英罩,以减小热量损失。

2、样品可置于加热线圈内,以达到更好的加热效率和温度均匀性。

3、采用PID方式调节温度,可设置30段升降温程序。

4、设有一滑动法兰安装于移动加上,以便于样品的放入和取出。

5、已通过CE认证。

技术参数

等离子源

1、等离子体射频电源:110V/220V  50Hz/60Hz   <100W

2、输出频率:13.56MHz

3、射频功率:7.2W10.5W18W三档,可调节

4、腔体尺寸:外径Ø76.2mm×内径Ø68.58mm×长406.4mm

5加热圈:电源220V,最大功率500W外径Ø50mm×内径Ø40mm×70mm,并套有内径Ø50.8mm×Ø75mm的石英罩

6法兰Ø3″不锈钢法兰,设有KF-25真空泵接口、1/4″卡套接头、不锈钢针阀

7通入气体:可通入多种惰性气体,如N2Ar,不可通入易燃易爆性气体

8真空度:10-2torr(机械泵)

两通道混气系统

1浮子流量计:10ml/min-100ml/min2

2、针阀:304不锈钢针阀,3

3压力表:-0.1MPa-1.0MPa0.01MPa/grid),3

真空泵

1、抽气速率:120L/min

2、接口:KF-25

产品规格

1尺寸:等离子源216mm×254mm×203mm,控制盒102mm×254mm×203mm

     两通道混气系统340mm×300mm×180mm,移动架600mm×600mm×1250mm

2、重量:32kg


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