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  • 产品名称: 钙钛矿镀膜机
  • 上架时间: 2017-04-28
  • 产品编号: 03050106
  • 浏览次数: 70

产品简介:钙钛矿镀膜主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

 

产品型号

钙钛矿镀膜

主要特点

1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

技术参数

1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm

2空排气系统采用分子泵+机械泵系统

3空度镀膜室极限真空6×10-4Pa

4统漏率:1×10-7Pa

5发源:安装在真空室的下底上;有机蒸发源4个、容积5ml2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度 400℃,功率0.5KW;无机蒸发源4套、容积5ml2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开

6品架:安装在真空室的上盖上,可放置Ø120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm

7热温度:RT-180℃,测温、控温

8厚控制仪石英晶振膜厚控制仪,膜厚测量范围0-999999Å

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