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    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    • 产品名称： VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    • 上架时间： 2017-04-28
    • 产品编号： 03050101
    • 浏览次数： 1103

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    产品简介：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

     

    产品型号

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    产品型号

    VTC-600-2HD

    安装条件

    本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

    2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

    3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀

    4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

    5、通风装置：需要

    主要特点

    1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

    2、可制备多种薄膜，应用广泛。

    3、体积小，操作简便。

    技术参数

    1、电源电压：220V  50Hz

    2、功率：<2KW（不含真空泵）

    3、极限真空度：9.0×10-4Pa

    4、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

    5、靶枪数量：2个（可选配其他数量）

    6、靶枪冷却方式：水冷

    7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

    8、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源）

    9、载样台：Ø140mm

    10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调

    11、工作气体：Ar等惰性气体

    12、进气气路：质量流量计控制2路进气，一路为100SCCM，另一路为200SCCM。

    产品规格

    1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm

    2、整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm

    3、真空室规格：φ300×300mm

    4、重量：160kg

    标准配件

    1

    直流电源控制系统

    1套

    2

    射频电源控制系统

    1套

    3

    膜厚监测仪系统

    1套

    4

    分子泵（德国进口）

    1台

    5

    冷水机

    1台

    6

    冷却水管（Ø6mm）

    4根

    可选配件

    金、铟、银、白金等各种靶材

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作指导

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