客服
留言
返回顶部

工作时间

周一至周五:8:00-11:30 12:30-17:00

产品中心

Products Center

#
  • #
  • #
  • #
  • #
#
产品名称: 双靶磁控溅射仪
产品型号: VTC-600-2HD
产品简述:03050101
浏览次数: 8570
技术参数
设备视频
附件下载

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

产品名称 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-2HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要参数
1、电源电压:220V  50Hz
2、功率:900W
3、腔体内径:Ø300mm
4、极限真空度:9.0×10-4Pa
5、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
6、靶枪数量:2个(可选配其他数量)
7、靶枪冷却方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
9、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)
10、载样台:Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、工作气体:Ar等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。
产品规格

1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、真空室规格:φ300×300mm
4、重量:160kg

序号 名称 数量 图片链接
1 直流电源控制系统
1套
2

射频电源控制系统

1套 -
3 膜厚监测仪系统
1套

-

4 分子泵(德国进口或者国产更大抽速)
1台 -
5 冷水机
1台 -
6 聚酯PU管(Ø6mm)
4m -

序号
名称
功能类别
图片链接
1

金、铟、银、铂等各种靶材

(可选)
-
2 可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜
(可选)
-
3

双层旋转镀膜夹具

(可选)


相关文章

免责声明

本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。

在线留言

请填写表格与我们联系

看不清楚,换一张