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OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑轨炉,其炉管直径为Φ50mm,炉体滑动速度可以根据实验需要而设置(1mm/sec-100mm/s),并可以设置左右反复滑动,同时还可以设置炉体的滑动距离。此款管式炉专门设计用CVD方法定向生长单壁碳纳米管(SWCNTs)。通时此款滑轨炉也可用来在硅片上生长熔点较低的金属单晶。此系统包含了可设30段程序的高温炉、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰。
产品名称 |
OTF-1200X-50-DSL定向CVD生长炉 |
产品型号 |
OTF-1200X-50-DSL |
主要参数 |
炉体结构: |
功率:1.5KW |
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电压:AC220V,单相 |
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最高共工作温度:1200℃(≤1小时) |
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连续工作温度:1100℃ |
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加热区域: ·加热区:200mm(单温区) ·通过管堵位置和炉体移动可形成想得到的温度梯度 |
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加热元件:掺钼铁铬铝(表面涂有高温氧化锆涂层,可延长其使用寿命) |
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炉管: |
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温控系统: ·采用PID方式调节温度,可设置30段升温、降温和保温程序 ·设置有温度过高和断偶保护系统 ·控温精度:±1℃ ·可选测PC控制软件,将升温程序和温度曲线导入到电脑中 |
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炉体滑动控制系统: ·触摸屏控制 ·炉体移动有手动和自动控制两种控制状态,在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度,但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。 ·含蜂鸣报警器,当炉体触碰到限位开关就会产生报警,并切断控制电路,使炉体停止移动。 ·可显示高温炉内的炉温,与之通讯 |
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密封法兰: ·仪器中配有一套不锈钢密封法兰(上面已安装不锈钢针阀和机械压力表) ·法兰上有一Φ6.35的铠装孔,可将热电偶插入到炉管中,更准确地测量样品的实际温度 |
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石英气体喷嘴:可选配石英气体喷嘴,将反应气体与缓冲清洗气体分开通入,可有效减少副反应发生,实现高端CVD工艺,如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺(ALC CVD)或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。 |
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真空度: ·10E-5torr(用分子泵) ·10E-2 torr(用直联式机械泵) |
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滑轨长度:1200mm |
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产品尺寸: ·315x300x380mm(炉体) ·1200x400x530mm(整个外形) ·360x180x300mm(电器控制柜) 产品重量:•100KG |
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