OTF-1200X-DVD是一款真空或气氛下坩埚可在炉管内移动(靠无杆气缸+步进电机控制)小型开启式管式炉,最高温度1200℃,通过触摸屏可以设置样品或坩埚在炉管内的位置,以及读取样品在管内的实时温度,此设备可以进行钛片退火处理、快速热处理,例如混合物理化学沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE),以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长(HDC),用于新一代晶体研究。· 通过无杆气缸+步进电机实现坩埚在管内移动
· 坩埚底部有测温热电偶实时检测样品温度
· 左端法兰采用卡箍连接方便取放样品
· 可选择改造为双温区管式炉,但需额外付费,以产生更高的热梯度或更长的恒温区。
产品名称 |
坩埚移动管式炉OTF-1200X-DVD |
产品型号 |
OTF-1200X-DVD |
主要参数 |
加热炉系统: |
不锈钢密封法兰系统: |
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坩埚移动+PLC系统:
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真空系统(选配): |
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产品尺寸: |
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重量:约150kg | |
保质期:1年(不包含炉管,氟胶O型圈和加热元件等损耗件) |
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认证: |
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