Products Center
高真空单辊旋淬系统用于各种金属材料在真空或气氛保护条件下的感应熔炼及快冷甩带成型;适合各种材料的非晶/微晶薄带或薄片的制备。实验型采用冷滚旋淬法制备薄片或薄带非晶材料,本设备主要由真空腔体、熔炼装置、喷铸装置、甩带装置、抽真空系统、炉体支架、电气控制系统、水冷却系统等组成。
产品型号 |
高真空单辊旋淬系统 |
主要特点 |
实验型采用冷滚旋淬法制备薄片或薄带非晶材料,本设备主要由真空腔体、熔炼装置、喷铸装置、甩带装置、抽真空系统、炉体支架、电气控制系统、水冷却系统等组成。 |
技术参数 |
1、每次甩带、喷铸合金:50g~300g |
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。
请填写表格与我们联系